一、玻璃基板簡介
在高端先進封裝領域,臺積電憑借CoWoS生產技術和多樣化產品組合占據領先地位,其 CoWoS-S在AI芯片市場主導地位顯著。該技術采用 ABF載板作為IC載板,帶有TSV的硅晶圓作為中介層,構建起三維互連體系。
然而,CoWoS-S封裝發展正面臨性能瓶頸,Si Interposer存在面積受限問題,有機中介層又面臨翹曲困擾。而玻璃基板有望突破這些困境,與 RDL(和LSI) 搭配的玻璃中介層,能有效解決當前難題。并且,ABF 載板在積層增加時良率下滑嚴重,玻璃芯 IC 載板不僅可減層 25%,還能憑借薄玻璃芯獲取高速信號 SI 收益,為封裝技術升級帶來新方向。

Source:《芯片三維互連技術及異質集成研究進展》(鐘毅等,2023)
二、玻璃基板下游應用及市場
人工智能與大模型高性能計算領域發展迅猛,對性能提升需求迫切,玻璃基板憑借自身優勢,有望在此率先獲得大量投入。在 MEMS、射頻、CIS、Mini/Micro LED、IPD 等技術領域,玻璃基板技術持續突破,已在IPD領域實現批量出貨。隨著技術成熟和成本降低,其應用范圍還將拓展至筆記本電腦、移動設備芯片等領域。

據Yole 樂觀預測,若更多IC 設計/IDM企業采用玻璃基板,且相關企業實現量產,2025年全球玻璃基板市場規模可達2980萬美元,2029年有望升至2.12億美元,市場潛力巨大。
三、玻璃基板面臨挑戰
盡管玻璃基板在性能和成本方面相比硅材料、有機材料優勢明顯,但從實驗室走向量產的過程中困難重重。在技術層面,長期可靠信息匱乏,建立完整數據庫需多年積累;玻璃的光學特性導致測量信號易失真或丟失。成本居高不下,產業生態尚未完善。
制造環節問題也不少,微裂紋、金屬化填充、線寬線距、曲翹以及散熱等都是亟待攻克的難題。

四、產業化進度
國際上,Intel和Absolics玻璃基板產業化方面進展突出。Intel深耕玻璃基板技術近十年,2023年推出的玻璃載板適用于人工智能和數據中心,計劃2026- 2030年量產,并投入超10億美元建設研發產線。Absolics 成立于 2021 年,與佐治亞理工學院合作緊密,其玻璃基板面向高端芯片領域,可集成多種芯片和無源器件。

傳統IC載板(左)與Absolics的玻璃基板(右)對比
Source:Absolics
眾多 Fab、先進封裝企業、IC 載板企業以及下游應用企業如蘋果、AMD 等紛紛加大對玻璃基板的投入,在全產業鏈的推動下玻璃基板的產業化將大大加速。
國內安捷利美維公司產線和產品良率相對穩定,可承接小批量訂單和樣板制作。云天半導體、佛智芯等企業也在積極研發并進行小批量試產,雖技術與國際領先水平有差距,但發展勢頭強勁。
五、玻璃基板核心步驟及方案
玻璃基板制造主要包含 TGV 通孔、TGV 金屬填充和 RDL 三個核心步驟。
1、TGV通孔
TGV 通孔制備中,激光誘導刻蝕法因加工品質優良,受到國內外頭部企業青睞,被視為極具前景的方案。

Source:LPKF
2、TGV的金屬化
TGV 金屬化流程獨特,由于玻璃是絕緣材料且與金屬粘附性差,省去沉積阻隔層的同時需增加黏附層,電鍍液和電鍍工藝與TSV不同。其金屬化一般分為表面處理、黏附層、種子層和電鍍銅四步。其中黏附層種類包括金屬氧化物、PI、Ti/Cu(PVD)等,金屬氧化物和PI黏附層是目前較為主流的方案。黏附層完成后再通過化鍍或者PVD的方法形成種子層,最后電鍍完成TGV的金屬填充,這樣就基本完成TGV金屬化的整個過程。
目前代表性的方案包括有以下幾種:

在黏附層的主流路線中,使用PI方案的企業包括佐治亞理工(Absolics)和佛智芯等,具備金屬氧化物方案的企業包括安美特MKS-Atotech、日本OKUNO、Resonac等。
(1)PI方案,先對玻璃通孔進行表面處理,隨后進行PI的涂覆,佛智芯使用PVD濺射Ti/Cu種子層,而佐治亞理工則使用化鍍工藝。以佛智芯為例, PI表面改性的玻璃能有效防范微裂紋,同時金屬化結合強度由1.67N/cm提升至8.26N/cm。

Source:佛芯微
(2)金屬氧化物方案。安美特MKS-Atotech的VitroCoat GI?是一種超薄金屬氧化物粘附促進劑,可通過濕化學方法在玻璃上形成金屬沉積。其利用超薄金屬氧化物粘附促進劑在玻璃上進行鍍膜,可實現細致的L/S和優異的附著力,Cu與玻璃的結合強度達到7N/cm 以上。

Source:MKS-Atotech
在完成黏附層和種子層后,還需要對TGV進行電鍍填銅,與TSV常用bottom-up電鍍方式不同,TGV電鍍填充方式一般為BFT填充。

BFT填充
Source:《玻璃通孔三維互連鍍銅填充技術發展現狀》(紀執敬等,2022)
玻璃基板的RDL按照使用材料可以分為ABF和PID兩種路線,銅布線的方法也分成半加成法和大馬士革法,目前產品多以ABF+半加成法為主,未來隨著L/S要求越來越高,PID路線+半加成/大馬士革有望得到更多應用。

ABF+SAP方案
Source:三疊紀
六、結語
玻璃基板對比硅和有機載板優勢顯著,更低的介電常數、更短的互聯長度使其能實現高速傳輸、高帶寬密度和低能耗,還能解決Si interposer 面積受限問題,同時通過面板級封裝可以降低成本。因此未來先進封裝路線中必有玻璃基板的一席之地。
目前全球主要大廠均積極布局,且研發速度加快,預計2026年前后會是開始大規模商業化的時間點,與此同時玻璃基板的技術指標也在拔高。國內企業也在加速研發和試產進度,但技術能力稍顯落后。
在玻璃基板商業化的過程中,制造端難題和產線匹配問題的解決需要新材料和新裝備的支持,這為國內材料和設備企業創造了發展機遇,有望推動整個產業鏈協同發展,助力玻璃基板行業邁向新高度。
來源:戰略規劃辦
編輯:文化宣傳辦
審核:肖彬