深圳先進電子材料國際創新研究院擬對“物理氣相沉積濺射儀”項目進行采購，現將需求公示如下：
（一）項目基本信息
項目名稱：物理氣相沉積濺射儀
是否接受進口設備：是
（二）采購需求概況
采購此設備用于大于100nm的各類金屬種子層的制備，例如Ti，Cu，Ni等，可以應用于先進封裝制程中，用于材料和電鍍藥水的配方驗證。
采購內容和數量：主機系統一套，包括傳輸模塊，去氣模塊，清洗模塊以及工藝沉積模塊（不少于了兩個腔室）；真空模塊，冷卻模塊以及動力模塊；RGA模塊，控制軟件系統一套。
簡要技術需求：1：金屬沉積速率＞60nm/min; 2:可兼容8寸/12寸晶圓；3.鍍銅表面粗糙度<3nm；4:刻蝕速率＞15nm/min
（三）公示期限（不少于三個工作日）
2020年11月13日至2020年11月18日
任何供應商、單位或者個人對公示內容有異議的，請在公示期內以書面形式將意見反饋至采購人、同級財政部門。
（四）采購單位聯系方式
采購單位：深圳先進電子材料國際創新研究院
聯系人: 姜老師
聯系方式：0755-86392103
附件：【騰訊文檔】供應商信息表https://docs.qq.com/sheet/DQVlMeW5WUmFzU3lO，請自行下載。